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上海實(shí)驗(yàn)室真空PECVD射頻模塊薄膜均勻沉積通過反應(yīng)氣態(tài)放電，有效地利用了非平衡等離子體的反應(yīng)特征，從根本上改變了反應(yīng)體系的能量供給方式低溫?zé)岬入x子體化學(xué)氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點(diǎn)，工藝流程簡(jiǎn)單，與傳統(tǒng)CVD系統(tǒng)比較，生長(zhǎng)溫度更低，管輝光均勻等效，薄膜均勻沉積。

實(shí)驗(yàn)室非標(biāo)定制真空光催化反應(yīng)裝置廣泛應(yīng)用化學(xué)合成、環(huán)境保護(hù)以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域。 KT-ZG50QC 型多功能光化學(xué)反應(yīng)儀適合應(yīng)用于化學(xué)合成、環(huán)境保護(hù)及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域，該系統(tǒng)具有技術(shù)合理、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作便捷、運(yùn)行穩(wěn)定、保護(hù)人體、自由組合、靈活定做等*優(yōu)勢(shì)！ 每根燈管單獨(dú)單元控制，可調(diào)節(jié)紫外光功率。

不銹鋼定制真空腔體 實(shí)驗(yàn)室非標(biāo)定制真空測(cè)試腔主要用于氣體敏感材料或其他對(duì)環(huán)境敏感性材料中的電信號(hào)測(cè)試。測(cè)試腔體內(nèi)部裝有不銹鋼加熱承載臺(tái)，臺(tái)面為50x50mm，臺(tái)面可升溫到350℃。

實(shí)驗(yàn)室非標(biāo)真空腔體、分子泵高真空機(jī)組系統(tǒng)是熱傳導(dǎo)加熱模式 腔體內(nèi)的加熱平臺(tái)上的溫度由于不同真空和氣氛環(huán)境導(dǎo)致測(cè)溫誤差也不同 常壓下為-10℃左右的負(fù)偏差 客戶可用PT100熱電阻貼在和樣品接近的樣品臺(tái)面上測(cè)準(zhǔn)確值做校準(zhǔn)。

小店承接各種規(guī)格型號(hào)的真空室開發(fā)設(shè)計(jì)、按圖定制等。我們?yōu)楦哒婵?、超高真空?yīng)用設(shè)計(jì)及制造各種真空腔室，包括為高校實(shí)驗(yàn)室和科研機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)的定制真空腔體 非標(biāo)定制方形腔體